能源技術商情新聞

5月23日，日本政府出臺半導體製造設備出口管制措施，將先進晶片製造設備等23個品類列入出口管理的管制對象，新規將於7月23日正式生效。

5月31日，一位中國大陸晶圓廠人士稱，很多晶圓廠人士直到這次禁令才恍然意識到日系設備也藏著巨大風險。一直以來美國對半導體的禁令，導致業內在建廠時著重評估美系設備的風險，評估日系風險的較少，甚至有人會加大由美系向日韓系設備的替換，包括從海外二手市場採購日系設備的動作都在增加。

中國大陸是世界最大的半導體市場，也是日本半導體產業最大出口市場，日本半導體優勢在於生產設備和原材料，每年對華出口額超過100億美元。

相較於終端和晶片的設計，晶片製造是中國大陸半導體產業的短板。本次出口管制是日本在半導體領域最嚴格、最全面的一次。相比美國對中國大陸實施的實體清單等出口管制措施，日本的措施更衝擊產業發展的根基，因為美國企業擅長晶片設計及成品，而日本企業擅長晶片的生產設備和原材料。

清單所涵蓋的23項半導體設備主要用於半導體的前道生產，也就是在一個空白的矽片上完成電路加工的過程，後續封裝的工具不在此內；從設備的描述看出，都是日本企業最擅長的部分，但並不涵蓋生產的所有，通常一條晶圓生產線需要半導體機台約有上百種。

針對先進半導體

本次有23個半導體相關品類被列入管制對象，包含1項熱處理設備、3項清洗設備、4項光刻/曝光設備、3項刻蝕設備、1項測試設備和11項薄膜沉積設備。

公開資料看，上述23類設備中，光刻設備的生產以尼康和佳能為主，塗膠顯影設備和幹法刻蝕設備、沉積設備以東京電子為主。

在設備方面，根據美國半導體產業調查公司VLSIResearch調研，2020年日本有7家企業被列為全球前15大半導體設備廠商。中國大陸一直是日本半導體設備廠商重要收入來源地區。

群益證券分析，清單在光刻機方面限制ArFi及更先進制程設備，其他設備整體對應工藝制程14nm及以下。中信證券分析，在受限的4項光刻設備中涉及EUV，EUV光刻機（僅荷蘭ASML提供）的採購中國大陸長期受限，所以日本限制的是EUV配套產品並沒有實質影響。但同時，ArF浸沒式光刻機日本尼康有相關產品也受到限制，未來需觀察許可實際發放情況。

上述晶圓廠人士稱，目前中國大陸全國各地興建的晶圓廠至少有數百家，真正從事先進半導體生產的並不多，目前看成熟工藝產線暫時不會受到影響，具備先進工藝生產能力企業的擴產會受到一定影響，中國大陸約有4-5家，每家企業有不止一條先進半導體產線。

突破原有出口管制框架

日本一直在半導體領域實施出口管制政策，同時日本也是瓦森納安排的成員國之一，其半導體設備也需要遵守相應的出口管制的協調性安排。北京市環球律師事務所上海分所合夥人趙德銘表示，由於上述設備與裝置大部分尚沒有列入瓦森納安排項下兩用物項清單，例如多項薄膜沉積設備並不在該清單的第3類「電子類產品」項下，因而可以看出，這已經完全突破了多邊瓦森納安排的框架，屬於單邊的、在經濟上的戰略對抗。

本次管制措施並非專門針對中國大陸，而是針對所有地區。趙德銘表示，實質上日本與美國一樣有個出口管制國別清單，對於所謂的友好國家，免於申領許可證，對於其他國家（包括中國大陸，日本針對中國大陸實行軍品禁運政策），則需要出口許可，鑒於中國大陸巨大的進口需求，可以看出本次管制對大陸的針對性很強。

根據日本《外匯及外國貿易法》及其規定，違反相關出口管制規定，未經許可出口管制物項或技術，視情節嚴重程度，可能受到刑事處罰，行政處罰或者警告。

從出口管制的監管邏輯上來看，出口管制的是管制物項（含商品、技術、軟體和服務）的跨境轉移，在新的管制生效後，除非有例外規定，涉及管制物項的維護、維修服務等活動，在日本出口管制制度下可能構成管制技術出口而通常受到出口管制，不論所需維護的產品出口是否在先或者在後。但是，就具體的維修，日本廠家理論上可以申請許可證。申請是否成功得看日本政府的國際政策考量與具體政策把握，可能隨時發生變化。

但是也應該看到，日本與歐盟一樣，並沒有美國出口管制意義上嚴格的「再出口」管制以及對於在日本之外所生產的物項（外國生產物項）的管制，同時對於外國企業和個人，只有按照最終用戶黑名單制度。因此對於在華企業而言，對於日本原產的半導體物項，客觀上並不是全然沒有供應鏈管道，只是管道可能更加收窄。更為關鍵的問題仍是物項進口後的售後維護問題，這將考驗各方的政治以及經濟智慧。

中國大陸國產機遇

晶片製造是中國大陸半導體產業的短板。製造又分為前道和後道環節，相比之下，中國大陸在前道設備上的國產化進程更弱，而本次受限的日系設備全部來自於前道環節。

東吳證券分析，收入口徑下，2022年11家半導體設備企業合計實現營業收入376億元，同比增長53%，對應半導體設備市場整體國產化率約22%。細分領域來看，國產半導體設備企業在清洗、熱處理、CMP、刻蝕設備等領域已取得一定市場份額。然而，對於光刻、測量/檢測、塗膠顯影、離子注入設備等領域，預估2022年國產化率仍低於10%，國產替代空間較大。

根據東吳證券數據，2022年中國大陸的華虹無錫廠多款設備招標整體國產化率不足20%。其中清單上的薄膜沉積設備國產化率10%，檢測和量測設備2%，光刻和塗膠顯影設備為0。

但仍然有少數企業在該領域做出了成果。芯源微專注國產塗膠顯影設備，公司表示前道塗膠顯影設備已完成在晶圓加工環節28nm及以上工藝節點全覆蓋，並可持續向更高工藝等級迭代。

中微公司的刻蝕設備已經做到5nm節點。北方華創的業務涵蓋多項清單內設備，包括刻蝕設備、薄膜沉積設備、熱處理設備、清洗設備。2022年公司電子工藝設備收入121億元，毛利率為37.7%，較上年提升4.7個百分點。

一位從事半導體耗材的人士表示，禁令會在一定程度上加快國產替代的進程，比如客戶會加強國貨的招標或者備選，提供一些機遇。但是相比晶片本身，晶片在設備和耗材上的國產替代其實是更艱難的過程，這裏遵循贏者通吃的產業規律，客戶生意是黏性很強的，很多本土晶圓廠多年來已經和海外供應商已經達成強綁定關係。

該人士稱，對於一家新供應商，客戶要承擔的風險大於收益，產品需要不斷迭代，要花大量時間和資金去試錯，有的甚至提供研發經費給供應商，所以後來者很難追趕。有些國產企業技術上達到了客戶標準，卻常年做備用品，最多也是小批量供貨，甚至很難得到試用機會。

國際半導體產業協會預計，2024年全球晶圓廠設備支出約920億美元，同比增長21%。上述晶圓廠人士稱，按照產業規律，明年晶圓廠會走入一個擴產週期，對半導體設備的需求也會增長。外部的禁令會倒逼國貨發展，給予國產設備商更多機會進入大廠，但是由於產業本身的經驗性和客戶黏性，更換設備商的過程，對晶圓廠和最終用戶來說都是一個陣痛期。

資料來源：http://news.hexun.com/2023-06-03/208829145.html